絲網(wǎng)除沫器石英是晶體結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成最簡(jiǎn)單的硅酸鹽礦物之一，也是較早被認(rèn)識(shí)到機(jī)械能誘發(fā)結(jié)構(gòu)變化和較全面研究粉碎過(guò)程機(jī)械化學(xué)現(xiàn)象所選擇的礦物材料之一。所示是用振動(dòng)磨研磨石英所得到的X射線衍射曲線和晶粒尺寸及晶格擾動(dòng)隨研磨時(shí)間的變化。通過(guò)將微分方程應(yīng)用于表示晶體變化與時(shí)間的關(guān)系，計(jì)算得出在研磨的最初階段以晶粒減小為主，但是延長(zhǎng)研磨時(shí)間，當(dāng)粉碎達(dá)到平衡后，伴隨有重結(jié)晶和表面的無(wú)定形化。

基于無(wú)定形材料的數(shù)量及比表面積效韉。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，對(duì)于粗粒研磨石英，表面變形層2nm。但是，在干磨過(guò)程中該變形增加到幾十納米，在很長(zhǎng)的研磨時(shí)間之后，整個(gè)顆粒變成無(wú)定形材料。在濕磨時(shí)，所檢測(cè)到的樣品的溶解度較小。但這并不表明石英在濕磨過(guò)程中不形成無(wú)定形層。其主要原因是，顆粒的無(wú)定形在濕磨過(guò)程中不斷被溶解在水中。此外，水介質(zhì)的冷卻散熱作用和潤(rùn)濕作用（減小黏附）也是濕磨過(guò)程中相轉(zhuǎn)換和無(wú)定形化較輕的原因之一。物（高嶺土、云母、滑石、膨潤(rùn)土、伊利石等）在超細(xì)粉碎加工過(guò)程中的機(jī)械激活作用下不同程度地失去其有序晶體結(jié)構(gòu)并無(wú)定形化。由于在這些礦物中無(wú)定形一般與晶體結(jié)構(gòu)中脫羥基且鍵能下降有關(guān)，因此，除了X射，線衍射外，這些礦物在超細(xì)研磨中的結(jié)構(gòu)變化也可用熱分析(DTA和DTG)以及紅外光譜(IR)等來(lái)進(jìn)行檢測(cè)。為各種不同層狀硅酸鹽礦物在細(xì)磨后的差熱曲線變化。

在塔內(nèi)容器中安裝絲網(wǎng)除沫器前應(yīng)設(shè)有人孔和手孔。且人孔和手孔安裝的位置跟絲網(wǎng)除沫器的厚度與直徑相關(guān)。絲網(wǎng)除沫器的厚度一般為100mm或150mm。

立式塔器的直徑在1m以下時(shí)，入口嘴子的頂端距絲網(wǎng)除沫器的距離應(yīng)不小于300mm；容器的直徑大于1m時(shí)，應(yīng)不小于450mm。容器的直徑在1m以下時(shí)絲網(wǎng)除沫器頂至罐頂?shù)木嚯x取300mm；當(dāng)容器的直徑大于1m時(shí)，取450mm。 容器直徑不小于800mm，且筒體與封頭為不可拆卸時(shí)，應(yīng)設(shè)人孔。人孔直徑與容器直徑的關(guān)系應(yīng)符合下表。當(dāng)公稱壓力不小于4MPa時(shí)，人孔直徑宜相應(yīng)減小。

容器直徑與人孔直徑的關(guān)系! 容器直徑（mm） 800≤D<1000 1000≤D<1600 1600≤D<3200 D>3200. 人孔直徑（mm） 400 ≤450 ≤500 ≤600

容器直徑小于800mm，且筒體與封頭為不可拆卸時(shí)，應(yīng)設(shè)有手孔。手孔直徑有150mm和250mm兩種規(guī)格。人孔和手孔的位置以檢修時(shí)便于進(jìn)入或方便操作為原則，一般設(shè)置在容器頂部或側(cè)面。一般情況下的人孔和手孔都根據(jù)上面所說(shuō)情況設(shè)置。